Рынок атомного слоя ANALYSIS

Мировой рынок осаждения атомного слоя оценивался в $2,03 млрд. в 2023 году, продемонстрировав CAGR в 13,1% с точки зрения выручки, за прогнозируемый период (2023-2030 годы) достигнет 4,81 млрд долларов США к 2030 году.

Осаждение атомного слоя (ALD) - это метод тонкопленочного покрытия, который наносит пленку на один атомный слой одновременно на компонент или систему контролируемым образом. Традиционные технологии тонкой пленки, такие как химическое осаждение паров (CVD), спиновое покрытие и физическое осаждение паров (PVD), не могут функционировать в нанометровых отложениях; этот процесс использовался в полупроводниковой промышленности.

Влияние Covid-19 на мировой рынок атомного слоя

Мировая экономика пострадала от пандемии коронавируса, поскольку правительства по всему миру ввели меры блокировки, чтобы обуздать движение людей. Из-за этих блокировок была приостановлена промышленная деятельность и международные поездки. Эти меры были приняты практически во всех промышленных секторах. Заводы и производственные мощности также столкнулись с перебоями в цепочке поставок и нехваткой рабочей силы. Пандемия COVID-19 продолжает наносить ущерб цепочке поставок в отрасли осаждения атомного слоя. Различные страны и субрегионы, такие как США, Германия, Франция, Китай, Индия, Япония, Южная Корея, Тайвань и АСЕАН являются видными рынками с точки зрения как производства, так и потребления осаждения атомного слоя. На эти страны сильно влияет COVID-19. Пандемия замедлила проекты по производству осаждения атомного слоя из-за нехватки рабочей силы и перебоев в поставках сырья. Из-за таких перебоев в мировой торговле строящиеся проекты были отложены, что привело к увеличению капитальных затрат (CAPEX), что, в свою очередь, остановило предложение осаждения атомного слоя.

Глобальный рынок атомного слоя - драйверы

• Растущее внедрение электронных и полупроводниковых решений: подъем принятие Электроника и полупроводниковые решения по всему миру выступают в качестве одного из основных факторов, стимулирующих рост глобального рынка осаждения атомного слоя. Различные инструменты осаждения используются в производстве полупроводников, таких как медные электроды, высоко-K диэлектрические затворные стеки и медные барьерные или семенные слои. Например, согласно данным, опубликованным Национальным агентством по содействию инвестициям Индии в марте 2022 года, которое подчиняется Министерству торговли и промышленности Союза, внутреннее производство Индии в электронике увеличилось с 29 миллиардов долларов США в 2014-15 годах до 67 миллиардов долларов США в 2020-21 годах.
• Рост зеленых источников энергии в сочетании с ростом солнечной энергетики: Растущие опасения по поводу глобального потепления и изменения климата побудили правительства по всему миру перейти к возобновляемым источникам энергии.Зеленая энергияИсточники. Поэтому, растущее усыновление Ожидается, что возобновляемые источники энергии будут стимулировать рост мирового рынка осаждения атомного слоя. Например, согласно отчету Центра климатических и энергетических решений (C2ES), опубликованному в июле 2021 года, независимая, беспартийная, некоммерческая организация, возобновляемая энергия является самым быстрорастущим источником энергии в США, увеличившись на 42% с 2010 по 2020 год (на 90% с 2000 по 2020 год).

Рисунок 1: Глобальный рынок атомного слоя By Продукт2023 год

To learn more about this report, request sample copy

Глобальный рынок атомного слоя - ограничения

• Высокие инвестиции, необходимые для исследований и разработок: Ожидается, что высокие инвестиции, необходимые для исследований и разработок, будут препятствовать росту мирового рынка осаждения атомного слоя в течение прогнозируемого периода. Кроме того, процесс ALD является постепенным, и это, как известно, является его основным ограничением.

Глобальный рынок атомного слоя - Сегментация

Среди продуктов сегмент оксида алюминия составил самую высокую долю рынка в 33% на мировом рынке осаждения атомного слоя в 2022 году. Использование осаждения атомного слоя для создания тонких пленок из оксида алюминия помогает в инкапсуляции органических светоизлучающих устройств или OLED. Растущий спрос на OLED в электронной промышленности стимулировал рост сегмента.

Глобальный рынок атомного слоя - Возможности

• Основные игроки этого рынка сосредоточены на расширении своих производственных мощностей: Основные игроки на этом рынке сосредоточены на расширении своих производственных мощностей, инвестициях, развитии инфраструктуры и возможностях интеграции по всей цепочке создания стоимости. С помощью этих стратегий компании по производству оборудования для нанесения атомного слоя удовлетворяют растущий спрос, обеспечивают конкурентоспособность, разрабатывают инновационные продукты и технологии, снижают производственные затраты и расширяют свою клиентскую базу. В феврале 2020 года для обеспечения высокопроизводительных фотонных устройств Veeco Instruments представила набор устройств для осаждения металлоорганических химических паров (MOCVD) Lumina.

Рисунок 2: Глобальный рынок атомного слоя By Продукт2023 год

To learn more about this report, request sample copy

Глобальный рынок атомного слоя - тенденции

Ожидается, что полупроводниковая и электронная промышленность будут стимулировать спрос.

Ожидается, что полупроводниковая и электронная промышленность будут стимулировать спрос на технологию осаждения атомных слоев. В то время как полупроводниковая промышленность, как ожидается, окажет непосредственное влияние на развитие технологии, любое увеличение в электронной промышленности поможет продвижению технологии. В результате в прогнозируемый период ожидается рост рынка осаждения атомного слоя.

Глобальный рынок депозиционирования атомных слоёв - региональные исследования

Среди регионов Азиатско-Тихоокеанский регион занимал доминирующее положение на мировом рынке осаждения атомного слоя в 2022 году, составляя 67% доли рынка по объему выручки, за ним следуют Северная Америка и Европа. В связи с ростом производства полупроводников и медицинского оборудования

Глобальный рынок атомного слоя - ключевые события

• В октябре 2022 года, Самко, Глобальный производитель оборудования для обработки травления, осаждения и обработки поверхности для полупроводниковых и смежных отраслей промышленности и академических учреждений запустил новую систему плазменного усиленного атомного слоя (PEALD), «AD-800LP». Основной целью системы является осаждение пленки оксида затвора для устройств питания следующего поколения, изготовленных из материалов карбида кремния (SiC) и нитрида галлия (GaN), которые будут играть важную роль в углеродной нейтральности.
• В июне 2022 года, Пикоцун Ой Компания была приобретена Applied Materials, Inc., ведущей американской компанией по производству полупроводникового оборудования. Это самый большой выход в операционной истории CapMan, измеряемый стоимостью выхода портфельной компании. Picosun предоставляет мировым отраслям самые передовые решения для тонкопленочного покрытия ALD (Atomic Layer Deposition). Решения Picosun ALD позволяют совершить технологический скачок в будущее с производственными процессами под ключ и непревзойденным новаторским опытом в этой области, начиная с изобретения самой технологии.
• В июне 2022 года SPARC, новая технология осаждения для продвинутой логики и DRAM, была представлена Lam Research Corporation. Используя технологию SPARC, компания Lam производит однородные, прочные пленки с низким разрешением, которые соответствуют характеристикам как по составу, так и по толщине. Тонкая пленка SPARC применяется без использования прямой плазмы, что может повредить тонкое оборудование под ней.
• В июне 2022 года Applied Materials завершила приобретение Picosun. Это поможет расширить портфель специализированных чипов компании.

Глобальный рынок атомного слоя - ключевые игроки

Ключевые игроки, работающие на мировом рынке осаждения атомного слоя, включают ALD Nano Solutions, Inc., Applied Materials, Inc., ASM International, Beneq, Denton Vacuum, Hitachi, Kurt J. Lesker Company, Lam Research Corporation, Tokyo Electron и Wonik IPS

* Определение: Осаждение атомного слоя (ALD) - это метод тонкопленочного покрытия, который наносит пленку на один атомный слой одновременно на компонент или систему контролируемым образом. Традиционные технологии тонкой пленки, такие как химическое осаждение паров (CVD), спиновое покрытие и физическое осаждение паров (PVD), не могут функционировать в нанометровых отложениях; этот процесс использовался в полупроводниковой промышленности.