COBRE SPUTTERING MERCADO DE DESTINO ANALYSIS

Estima-se que o mercado-alvo de pulverização de cobre global seja avaliado em US$ 1.29 bilhões em 2023, e é esperado alcançar US$ 2,19 bilhões em 2030, exibindo uma taxa de crescimento anual composta (CAGR) de 7,8% de 2023 a 2030. Os alvos de pulverização de cobre são materiais de cobre de alta pureza que são usados como fonte para depositar filmes de cobre finos em substratos através do processo de pulverização. A principal vantagem do alvo de pulverização de cobre é a capacidade de depositar uniforme, revestimentos de cobre de alta qualidade em componentes para várias aplicações que abrangem semicondutores, displays, células solares e muito mais. Os principais drivers incluem aumento da demanda de indústrias eletrônicas e automotivas.

O mercado-alvo de pulverização de cobre global é segmentado por aplicação, indústria de uso final e região. Por aplicação, o mercado é segmentado em semicondutor, energia solar, tela plana do painel, vidro arquitetônico e armazenamento de dados. O segmento de semicondutores representou a maior parte em 2022, devido ao uso generalizado de interconexões de cobre em chips e semicondutores.

Global Copper Sputtering Target Market- Insights regionais

• América do Norte espera-se que seja o maior mercado para o alvo de pulverização de cobre durante o período de previsão, representando mais de 41% da quota de mercado em 2023. O crescimento do mercado na América do Norte é atribuído às indústrias eletrônicas e semicondutoras bem estabelecidas na região.
• Europa espera-se que seja o mercado mais rápido para o alvo de pulverização de cobre, com um CAGR de mais de 9% durante o período de previsão. O crescimento do mercado na Europa é atribuído ao aumento da produção de veículos elétricos e à procura de energia renovável.
• Ásia Pacífico espera-se que seja o segundo maior mercado para o alvo de pulverização de cobre, representando mais de 32% da quota de mercado em 2023. O crescimento do mercado é atribuído ao setor de fabricação em rápida expansão e investimentos na produção de PV.

Figura 1. Global Copper Sputtering Target Market Share (%), Por Região, 2023

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Global Copper Sputtering Target Market- Drivers

• crescente demanda de eletrônica elétrica Indústria: A indústria elétrica e eletrônica é o principal usuário final de alvos de pulverização de cobre, e o crescimento do mercado é impulsionado pelo uso crescente de interconexões de cobre em semicondutores e placas de circuito impresso. A alta condutividade elétrica e térmica de cobre levou a sua adoção aumentada sobre as interconexões tradicionais de alumínio e ouro em fichas e PCBs. Aumentar a complexidade e a miniaturização de dispositivos eletrônicos leva a maiores requisitos de integração e desempenho, e isso aumenta a demanda por alvos de pulverização de cobre. Além disso, o crescente mercado eletrônico globalmente, especialmente em economias emergentes, apresenta oportunidades significativas para o crescimento do mercado.
• Uso crescente de cobre na fotovoltaica solar: O cobre desempenha um papel crítico na fabricação de células fotovoltaicas, onde é usado como um condutor elétrico e para a metalização de bolachas de silício. Por exemplo, de acordo com a Agência Internacional de Energia (IEA), a demanda anual de cobre global no setor solar PV especificamente aumentará de 756.8kt (kilotons) em 2022 para um pico de 2,062.5kt em 2035, e até 1,879,8kt em 2050. A forte mudança para a energia solar renovável em todo o mundo é um fator importante que impulsiona a demanda por alvos de pulverização de cobre. O cobre tem excelente condutividade elétrica, e prova mais eficiente do que o alumínio para metalização em células solares de silício cristalino. A reflectância óptica superior de cobre aumenta a eficiência das células solares de película fina. Os custos de declínio dos módulos PV acoplados com políticas governamentais de apoio para adoção solar irão impulsionar ainda mais a aplicação da tecnologia de pulverização de cobre na indústria solar.
• Crescimento nas indústrias de exibição e semicondutores do painel plano: A expansão exibição de painel plana (FPD) e indústrias de semicondutores estão entre os principais condutores de crescimento para o mercado alvo de pulverização de cobre. O cobre está cada vez mais sendo usado para metalização em telas de cristal líquido e OLED, substituindo o alumínio devido à sua menor resistividade. Além disso, a crescente demanda por semicondutores em aplicações AI, 5G, IoT e automotivo é impulsiona a necessidade de alvos de pulverização de cobre de alta pureza para metalização e interconexões em fichas.
• Vantagens sobre a Tecnologia de Evaporação: Os benefícios inerentes do processo de pulverização sobre a evaporação térmica tradicional aumentaram a absorção de alvos de pulverização de cobre. Sputtering permite uma espessura de revestimento mais uniforme e consistente, juntamente com níveis de pureza mais elevados. O aumento das tecnologias avançadas de pulverização como a pulverização de magnetron melhorou ainda mais as taxas de deposição, a produtividade e a eficácia na aplicação de revestimentos de cobre em substratos. Isso alargou a paisagem de aplicação para alvos de pulverização de cobre além da eletrônica em outras áreas, como vidros automotivos, entrega de drogas e outros.

Global Copper Sputtering Target Market- Oportunidades

• crescente demanda de nações emergentes: As economias em desenvolvimento na Ásia Pacífico, América Latina e Oriente Médio representam avenidas significativas de crescimento para fabricantes de alvos de pulverização de cobre. Essas regiões estão testemunhando uma rápida industrialização, urbanização e aumento dos rendimentos de eliminação, e isso aumenta os investimentos substanciais em construção, infraestrutura, fabricação eletrônica e produção automotiva. Isso gera demanda substancial por tecnologia de pulverização de cobre e equipamentos associados & metas para revestimentos decorativos, blindagem EMI, metalização e outras aplicações. Os jogadores de mercado podem explorar o potencial de vendas de alto volume oferecido pelas economias emergentes.
• Produção de veículos elétricos de elevação: A transição acelerante de motores de combustão interna para veículos elétricos globalmente é uma perspectiva lucrativa para fornecedores alvo de pulverização de cobre. EVs contêm quase quatro vezes mais cobre do que carros convencionais devido ao seu uso extensivo em motores de tração, baterias, inversores, fiação e infra-estrutura de carregamento. O cobre desempenha um papel fundamental no aumento da eficiência e segurança em EVs através da dissipação de calor em motores e eletrônica de energia. A procura de EV exige a fabricação de alto volume usando a tecnologia de pulverização de cobre para revestimento de superfícies e interfaces de componentes. Parcerias estratégicas com OEMs automotivos e fabricantes de bateria podem ajudar as empresas alvo a capitalizar nesta oportunidade.
• Aplicações em crescimento no armazenamento magnético: A explosão de dados impulsionada pela revolução digital em setores de consumidores e empresas aumenta a demanda por soluções de armazenamento de dados de alta capacidade. Isso impulsiona o desenvolvimento de dispositivos de armazenamento magnético de ponta como discos rígidos usando a tecnologia de gravação magnética assistida a calor (HAMR). Os alvos de pulverização de cobre são essenciais para depositar filmes finos de cobre em platters de acionamento HAMR sem prejudicar as propriedades magnéticas. O aumento da captação da HAMR beneficiará significativamente os fornecedores alvo de pulverização. Além disso, a mudança para a computação em nuvem e grandes dados irá sustentar oportunidades de longo prazo nesta área.
• Uso crescente em revestimentos de Nano: Há crescente adoção da tecnologia de pulverização de cobre para depositar nano revestimentos funcionais em materiais, aproveitando as propriedades de condutividade e superfície do cobre. Os revestimentos Nano aprimoram propriedades como a adesão, dureza, resistência à corrosão/cratch e autolimpeza. Ampliar aplicações em corpos de automóveis, janelas, implantes biomédicos, têxteis, materiais de construção, equipamentos industriais, e outros irá estimular a demanda por revestimentos nano de cobre, criando perspectivas positivas para os fabricantes alvo.

Global Copper Sputtering Target Market... Evolução

• Desenvolvimentos em Magnetron Sputtering: As técnicas de pulverização de magnetron estão passando por avanços contínuos para permitir um controle preciso sobre a espessura do filme, melhorar as taxas de deposição e melhorar a utilização do alvo. Isso inclui o uso emergente de pulverização de ímã de alta potência (HIPIMS), que ioniza uma fração maior de átomos pulverizados. HIPIMS fornece revestimentos de cobre mais densos e mais suaves a temperaturas mais baixas. Além disso, avanços como sistemas de magnetron duplo permitem a liga de metais diferentes, que expande aplicações de pulverização. Tais desenvolvimentos tecnológicos apoiarão a adoção crescente de pulverização de ímã de cobre.
• Uso crescente de alvos de alta pureza: Aplicações como fabricação de semicondutores e HAMR exigem alvos de pulverização de cobre com níveis de pureza ultra-alta até 99,999%. Isso requer processos avançados de fabricação e controle de qualidade. Os fabricantes-alvo estão cada vez mais desenvolvendo alvos de pureza mais elevados através de técnicas como derretimento de arco de vácuo, remelting eletroslag e refino de zona para reduzir impurezas. A adoção de alvos de alta pureza garante o desempenho elétrico, térmico e mecânico ideal de filmes pulverizados de cobre, impulsionando as receitas do mercado.
• demanda crescente por alvos personalizados: Com a ampliação dos casos de uso, há crescente demanda por metas de cobre específicas de aplicação adaptadas às necessidades individuais do cliente em termos de tamanho, pureza, estrutura de grãos, camada de ligação e outros. Os alvos personalizados permitem otimizar o processo de pulverização para fatores como estresse de filme, taxa de deposição e adesão. Os fornecedores-alvo estão equipando suas instalações de R&D e fabricação para fornecer formas de alvo personalizadas, composições e tamanhos. Isso lhes oferece oportunidades para vender ofertas especializadas de alto valor para os clientes.
• Integração de tecnologia em Indústrias: A convergência de tecnologias em setores como eletrônica, telecomunicações, automotivo, saúde e outros está expandindo o escopo de aplicação da pulverização de cobre. Por exemplo, a integração da eletrônica em veículos para automação e conectividade pode aumentar a demanda de cobre automotivo. Da mesma forma, dispositivos médicos wearable exigem revestimentos de cobre para flexibilidade e biocompatibilidade. Os fabricantes-alvo podem alavancar parcerias entre indústrias e redes de cadeia de suprimentos para explorar casos de uso emergentes e oferecer soluções de tecnologia integradas.

Global Copper Sputtering Target Market- Restrições

• Requisitos de investimento iniciais elevados: O investimento significativo de capital necessário para a criação de equipamentos de pulverização para R&D e a produção é uma barreira fundamental para a adoção de tecnologia. Os sistemas de vácuo complexos, sistemas de bombeamento, sistemas de refrigeração e componentes periféricos adicionam aos custos do equipamento. O alto custo dos sistemas automatizados de pulverização torna a viabilidade um desafio para muitos usuários finais e limita a comercialização em massa.
• Fabricação complexa Processo: Os processos de fabricação e controle de qualidade intrincados envolvidos na produção de alvo de cobre adicionam prazos e custos de chumbo. Passos como fundição de lingote, laminação a quente, laminação a frio, usinagem final e acabamento exigem extensa infraestrutura e mão de obra qualificada. Além disso, alcançar os níveis de pureza e as propriedades materiais necessárias para revestimentos funcionais adiciona complexidade. Isso torna os alvos caros, dificultando a adoção em larga escala entre os usuários finais e restringindo o crescimento do mercado.
• Exigência de força de trabalho qualificada: A operação e manutenção de equipamentos e sistemas de pulverização modernos exigem técnicos treinados com experiência especializada. No entanto, há uma escassez aguda de engenheiros e operadores qualificados, especialmente em regiões em desenvolvimento. O alto grau de monitoramento manual, solução de problemas e otimização necessários durante o processo de pulverização aumenta a dependência de trabalhadores qualificados. A falta de uma força de trabalho experiente pode dificultar os planos de expansão de fabricantes de equipamentos e fornecedores alvo.

Global Copper Sputtering Target Market - Desenvolvimentos recentes

Novos lançamentos de produtos

• Em janeiro de 2022, Testbourne Ltd é uma empresa de materiais, fornecendo materiais de alta pureza, cristais únicos & wafers, lançou uma nova gama de alvos de pulverização de cobre de alta pureza especificamente para a produção de HAMR HDD. Os novos alvos fornecem a estrutura de grãos ultra-alta pureza e uniforme necessária para mídia HAMR de alta densidade de armazenamento.
• Em junho de 2021, a Plasmaterials Inc. está fornecendo materiais de alta pureza para todos os tipos de aplicações de película fina, introduziu o novo extra-large Alvo de pulverização de cu com dimensões de 550 x 1250 mm para permitir o revestimento de tamanhos de substrato maiores. O alvo jumbo é ideal para produção de alto volume em PV e aplicações de exibição.
• Em maio de 2020, Kurt J Lesker Empresa é a fabricação de produtos de vácuo, lançou um novo alvo de cobre ímã rotativo cilíndrico para erosão uniforme e utilização alvo aprimorada. O design patenteado permite rotação de 360 graus para a espessura e composição consistentes do filme.

Aquisição e Parcerias

• Em março de 2022, a Praxair anunciou um acordo de fornecimento estratégico com a Samsung Electronics para fornecer alta pureza Cu sputtering alvos para fabricação de semicondutores. Isso fortaleceu a posição da Praxair como um fornecedor chave para as operações globais da Samsung.
• Em outubro de 2020, a JX Nippon Mining fez parceria com a AGC Inc., um fabricante de vidro automóvel, para desenvolver um novo tipo de vidro de blindagem EMI transparente usando um filme de cobre depositado através da tecnologia de pulverização. Isso permite uma aplicação mais ampla em veículos elétricos e autônomos.

Figura 2. Global Copper Sputtering Target Market Share (%), Por Aplicação, 2023

Principais empresas em Global Copper Sputtering Target Market

• JX Nippon Mining & Metals Corporation
• Mitsui Mining & Smelting Co. Ltd.
• Ultimo Technology Co. Ltd.
• ULVAC Tecnologias, Inc.
• KFMI Corporation
• Plasmaterials Inc.
• Tosoh SMD Inc.
• Kurt J Lesker Empresa
• Testbourne Ltd
• Praxair S.T Technology, Inc.

Definição: O mercado de alvo de pulverização de cobre global refere-se à indústria e à demanda global por alvos/cathodes de material de cobre de alta pureza usados no processo de deposição de vapor físico de pulverização para depositar filmes finos de cobre em substratos como semicondutores, células solares, displays, peças automotivas e outros. O cobre é um material de pulverização ideal devido à sua alta condutividade elétrica e térmica, ductilidade e resistência à corrosão. O processo de pulverização de cobre encontra aplicações críticas em eletrônica, optoeletrônica, energia, automotivo, saúde e outros setores.