MERCADO DE DEPOSIçãO DE CAMADA ATôMICA ANÁLISE

O mercado global de deposição de camada atômica foi avaliado em US$ 2.03 Bn em 2023, exibindo um CAGR de 13,1% em termos de receita, durante o período de previsão (2023 a 2030) para chegar a US$ 4,81 bilhões até 2030.

Deposição de camada atômica (ALD) é uma técnica de revestimento de película fina que deposita um filme uma camada atômica de cada vez em um componente ou sistema de forma controlada. As tecnologias tradicionais de filmes finos, como a deposição química de vapor (CVD), o revestimento de rotação e a deposição física de vapor (PVD) não podem funcionar em depósitos em escala nanométrica; este processo tem sido usado na indústria de semicondutores.

Covid-19 Impacto no Mercado Global de Deposição de Camada Atômica

A economia global foi afetada pela pandemia do coronavírus como governos em todo o mundo impuseram medidas de bloqueio para reduzir o movimento das pessoas. Devido a estes bloqueios, as atividades industriais foram interrompidas, e viagens internacionais foram interrompidas. Estas medidas tiveram uma tomada significativa em quase todos os sectores industriais. Fábricas e instalações de fabricação também enfrentaram avarias da cadeia de suprimentos e escassez de trabalho. A pandemia COVID-19 continua a causar estragos na cadeia de abastecimento da indústria de deposição de camada atômica. Vários países e sub-regiões como os EUA, Alemanha, França, China, Índia, Japão, Coreia do Sul, Taiwan e ASEAN são mercados proeminentes em termos de produção e consumo de deposição de camada atômica. Estes países são fortemente impactados pelo COVID-19. A pandemia abrandou os projetos de fabricação de deposição de camada atômica devido à escassez de trabalho e interrupções no fornecimento de matérias-primas. Devido a tais interrupções ao comércio global, os projetos em construção foram atrasados, resultando em maiores despesas de capital (CAPEX), que por sua vez interrompeu o fornecimento de deposição de camada atômica.

Global Atomic Layer Deposition Market - Motoristas

• Aumento da adoção de soluções eletrônicas e semicondutores: Rising adopção soluções eletrônicas e semicondutoras em todo o mundo atua como um dos principais fatores que impulsionam o crescimento do mercado global de deposição de camadas atômicas. Vários instrumentos de deposição são usados na fabricação de semicondutores, tais como eletrodos de cobre, pilhas de portão dielétrico de alta K, e barreira de cobre ou camadas de sementes. Por exemplo, de acordo com dados publicados pela Agência Nacional de Promoção e Facilitação de Investimentos da Índia em março de 2022, que vem sob o Ministério do Comércio e Indústria da União, a produção interna da Índia em eletrônica aumentou de US$ 29 bilhões em 2014-15 para US$ 67 bilhões em 2020-21.
• Aumentar fontes de energia verde acopladas ao crescimento da indústria de energia solar: As preocupações crescentes para o aquecimento global e as mudanças climáticas incentivaram os governos em todo o mundo a se moverem para as energias renováveis eenergia verdefontes. Assim, adopção crescente de energia renovável é esperado para impulsionar o crescimento do mercado global de deposição de camada atômica. Por exemplo, de acordo com o relatório Center for Climate and Energy Solutions (C2ES) publicado em julho de 2021, uma organização independente, sem fins lucrativos, a energia renovável é a fonte de energia de crescimento mais rápido nos EUA, aumentando 42% de 2010 para 2020 (até 90% de 2000 a 2020).

Figura 1: Mercado Global de Deposição de Camada Atómica , Por favor. Produto, 2023

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Global Atomic Layer Deposition Market - restrições

• Alto investimento necessário para pesquisa e desenvolvimento: Espera-se que o alto investimento necessário para pesquisa e desenvolvimento obstrua o crescimento do mercado global de deposição de camadas atômicas ao longo do período de previsão. Além disso, o processo de ALD é gradual, e isso é conhecido por ser sua principal limitação.

Global Atomic Layer Deposition Market - Segmentação

Entre os produtos, o segmento de óxido de sódio representou a maior quota de mercado de 33% no mercado global de deposição de camada atômica em 2022. O uso de deposição de camada atômica para criar óxido de alumínio finos filmes auxilia na encapsulação de dispositivos de emissão de luz orgânica, ou OLEDs. A crescente demanda por OLEDs da indústria eletrônica tem impulsionado o crescimento do segmento.

Global Atomic Layer Deposition Market - Oportunidades

• Os principais jogadores neste mercado se concentram em expandir suas instalações de fabricação: Os principais jogadores deste mercado se concentram em expandir suas instalações de fabricação, investimentos, desenvolvimento de infraestrutura e oportunidades de integração em toda a cadeia de valor. Com essas estratégias, as empresas de equipamentos de deposição de camadas atômicas atendem ao aumento da demanda, garantem a eficácia competitiva, desenvolvem produtos e tecnologias inovadores, reduzem os custos de produção e expandem sua base de clientes. Em fevereiro de 2020, para permitir dispositivos fotonics de alto desempenho, um conjunto de dispositivos de deposição de vapor químico Lumina Metal-orgânico (MOCVD) foi introduzido pela Veeco Instruments.

Figura 2: Global Atomic Layer Deposition Market , Por favor. Produto, 2023

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Global Atomic Layer Deposition Market - Evolução

Espera-se que as indústrias de semicondutores e eletrônicos conduzam a demanda

Espera-se que as indústrias de semicondutores e eletrônicos conduzam a demanda por tecnologia de deposição de camada atômica. Embora a indústria de semicondutores seja esperada para ter um impacto direto no desenvolvimento da tecnologia, qualquer aumento na indústria eletrônica ajudará o avanço da tecnologia. Como resultado, espera-se que o mercado de deposição de camada atômica cresça no período de previsão.

Global Atomic Layer Deposition Market - Insights regionais

Entre as regiões, a Ásia-Pacífico ocupava uma posição dominante no mercado global de deposição de camadas atômicas em 2022, representando 67% de participação no mercado em termos de receita, seguido pela América do Norte e Europa. Devido à crescente indústria de semicondutores e equipamentos médicos

Global Atomic Layer Deposition Market - Principais Desenvolvimentos

• Em outubro de 2022, Samco, um fabricante global de equipamentos de processamento de gravação, deposição e tratamento de superfície para o semicondutor e indústrias relacionadas e instalações acadêmicas, lançou o novo sistema Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD), o “AD-800LP”. O principal alvo do sistema é deposição de filme de óxido de portão para dispositivos de potência de próxima geração feitos de carboneto de silício (SiC) e materiais de nitreto de gallium (GaN), que desempenharão um papel essencial na neutralidade de carbono.
• Em junho de 2022, Picosun Oi! foi adquirida pela Applied Materials, Inc., uma empresa líder em equipamentos semicondutores baseados nos EUA. Esta é a maior saída do histórico operacional da CapMan, medida pelo valor de saída da empresa de portfólio. A Picosun fornece às indústrias globais as mais avançadas soluções de revestimento de película fina ALD (Atomic Layer Deposition). As soluções ALD da Picosun permitem um salto tecnológico no futuro com processos de produção de chave na mão e conhecimentos pioneiros no campo – remontando à invenção da própria tecnologia.
• Em junho de 2022, SPARC, uma nova tecnologia de deposição para lógica avançada e DRAM, foi introduzida pela Lam Research Corporation. Com a sua tecnologia SPARC, a Lam produz filmes homogêneos e fortes que cumprem com características tanto em termos de composição quanto de espessura. O delicado filme SPARC é aplicado sem o uso de plasma direto, o que pode prejudicar o delicado equipamento por baixo.
• Em junho de 2022, a Applied Materials concluiu sua aquisição de Picosun. Isso ajudará a ampliar o portfólio da empresa de chips especiais.

Global Atomic Layer Deposition Market - Principais Jogadores

Os principais jogadores que operam no mercado global de deposição de camada atômica incluem ALD Nano Solutions, Inc., Applied Materials, Inc., ASM International, Beneq, Denton Vacuum, Hitachi, Kurt J. Lesker Company, Lam Research Corporation, Tokyo Electron e Wonik IPS

*Definição: Deposição de camada atômica (ALD) é uma técnica de revestimento de película fina que deposita um filme uma camada atômica de cada vez em um componente ou sistema de forma controlada. As tecnologias tradicionais de filmes finos, como deposição química de vapor (CVD), revestimento de rotação e deposição de vapor físico (PVD) não podem funcionar em depósitos em escala nanométrica; este processo tem sido usado na indústria de semicondutores.