Coherent Market Insights

Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market은 Forecast Period (2021-2028) 동안 26.1%의 CAGR를 전시 할 것으로 예상됩니다.

Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market은 Forecast Period (2021-2028) 동안 26.1%의 CAGR를 전시 할 것으로 예상됩니다. - Coherent Market Insights

Publish In: Sep 17, 2024

주요사업 Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography 시장장비 (Mask, Mirror, Light Source 및 기타)에 의해, End User (Integrated Device Manufacturer (IDM), Foundry 및 기타) 및 지역 (북미, 유럽, 아시아 태평양, 라틴 아메리카, 중동 및 아프리카) - Global Forecast에서 2028년까지, 2028년까지 US$ 29,648.4백만 달러에 상당할 것으로 예상되며, 예측 기간 동안 26.1%의 CAGR를 전시합니다. (2021-2028). Coherent 시장 통찰력·

제품정보

Extreme ultraviolet (EUV) lithography는 칩 인쇄 및 웨이퍼 제조에 사용되는 lithography의 고급 버전입니다. EUV lithography는 마스크, 광원, 거울, 광학, 사진 및 기타 lithography 도구를 포함하는 다양한 요소 기술을 필요로합니다.

Global Extreme ultraviolet (EUV) lithography 시장은 계정으로 추정됩니다. 장바구니 US$0.00 2020년

시장 드라이버

스마트폰 사용

스마트 폰의 사용은 글로벌 극초화 (EUV) lithography 시장의 성장을 구동하는 요인 중 하나입니다. 예를 들어, 미국 일반 서비스 관리, 스마트 폰 및 태블릿은 12 월 2015의 모든 인터넷 트래픽의 36%를 차지했으며, 이는 12 월 2016에서 43%로 증가했습니다. 또한, 처분할 수 있는 소득 및 도시화는 예측 기간 도중 뜻깊은 성장을 전시합니다. 새로운 기술 프리미엄 5G 스마트 폰과 5G 네트워크의 높은 채택을위한 놀라운 수요는 고속 데이터 전송에 대한 수요를 생성합니다. Coherent Market Insight의 보고서에 따르면 미국 스마트 폰 사용자의 수는 2016에서 273.3 백만으로 증가했습니다.

시장 기회

극단적인 자외선 (EUV) lithography 기술 관련 투자 및 연구 및 개발 활동 성장.

성장 투자 극단적 인 자외선 (EUV) lithography는 예측 기간에 글로벌 극단적 인 자외선 (EUV) lithography 시장의 성장을 연료 할 것으로 예상됩니다. 예를 들어, 2021 년 7 월 2 일부터 Micron Technology는 차세대 EUV 시설에 투자를 시작합니다. Micron은 EUV 시설 투자로 인해 증가했다. Micron은 ASML Holding의 ( 반도체 산업의 혁신 리더) 새로운 EUV lithography 장비 NXE:3600을 설치하는 계획입니다. 올해 말에 연구 시설 D. 회사는 수입에서 볼륨 생산에 사용하기 전에 실험적 목적으로 새로운 장비를 대량 생산 라인에 적용 할 것으로 예상됩니다.

시장 동향

Adoption 극단적인 자외선 (EUV) lithography technology by foundries

삼성, 대만 반도체 제조 회사, 제한 및 칩 제조 및 웨이퍼 제조에 대한 다양한 Foundries에 의해 극단적 인 자외선 (EUV) lithography 기술을 채택하고 극한 자외선 (EUV) lithography 시장의 성장을 추진. 예를 들어 2018 년 2 월 Qualcomm은 Samsung의 7nm LPP EUV 기술을 사용하여 제조 된 Qualcomm Snapdragon 5G 모바일 칩셋을 발표했습니다. 또한, 2020 년 8 월 삼성은 10nm 급 "1z" Foundry 노드에서 16 GB LPDDR5 메모리 모듈의 생산을 발표했습니다. 이 칩은 극단적인 자외선 lithography를 사용하여 건설된 최초의 LPDDR5 모듈이며 삼성 및 TSMC 모두 배포 과정에서 있습니다. 삼성은 첫 세대 7nm 노드와 직접 EUV를 통합하고 TSMC는 두 단계로 처리하는 촉촉감.

Global Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market - 코로나 바이러스 (Covid-19)의 영향

글로벌 극단적 인 자외선 (EUV) lithography 시장은 영향을 받았다. 시장의 몇 가지 핵심 플레이어는 직원의 건강을 보호하기 위해 일시적으로 폐쇄해야했다. 또한, 공급 사슬 측에, 완전한 lockdown 때문에 성분의 제조를 위한 원료의 가용성은 시장의 성장을 위한 중요한 억제물입니다. 원료 및 부품 공급 지연으로 인해 제조 업체는 시장에서 제품을 제공 할 수 없습니다. 따라서, 세계적인 극단적인 자외선 (EUV) lithography 시장은 pandemic에 의해 영향을 받습니다. 다양한 국가의 정부는 몇 가지 범위에서 lockdown 제한을 해제하고 있지만, 회사는 여전히 상점 바닥에 부분적인 직원과 가정에서 남아있다. 따라서 다양한 전자 및 반도체 부품 제조업체는 생산 목표를 완료하는 데 지연이 있습니다.

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https://www.coherentmarketinsights.com/market-insight/extreme-ultraviolet-lithography-market-4537

공급 업체

세계적인 극단적인 자외선 (EUV) lithography 시장에서 운영하는 중요한 선수는 Canon Inc., Samsung Electronics Co. Ltd, Toppan Photomasks Inc., Ushio, Inc., ASML Holding NV, NTT Advanced Technology Corporation, Nikon Corporation, Intel Corporation 및 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited를 포함합니다.

회사연혁

시장 세금:

  1. 제품정보
  • 제품정보
  • 기타 제품
  • 빛 근원
  • 이름 *
  1. 최종 사용자
  • 통합 장치 제조업체 (IDM)
  • 회사연혁
  • 이름 *
  1. 지역별
  • 북아메리카
  • 유럽 연합 (EU)
  • 아시아 태평양
  • 라틴 아메리카
  • 중동
  • 주요 특징

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