Chemical Mechanical planarization (CMP)은 반도체 제조 중에 여러 번 사용되는 중요한 단계 중 하나입니다. 이 과정은 과잉 물자를 제거하고 CMP 슬러리로 알려진 액체의 도움으로 매끄러운 표면을 만드는 웨이퍼의 각 층에 사용됩니다. CMP 슬러리는 화학 기계 planarization의 과정에서 사용되는 미세 입자 및 활성 화학 물질을 포함하는 액체 확산입니다. 또한, CMP 슬러리는 CMP의 과정에서 웨이퍼 표면에 회전하고 개최되는 CMP 연마 낮잠 및 패드와 함께 사용됩니다.
시장 역학:
시장 전망:
CMP 슬러리 제조업체는 합병 및 인수, 제품 출시 및 제품 포트폴리오 및 소비자 기반 확장과 같은 전략에 중점을 둡니다. 예를 들어, 2020 년 1 월, Entergris, 특수 화학 물질 및 고급 재료 솔루션의 선두 주자 인 Sinmat 인수. Sinmat은 플로리다에 본사를 둔 CMP 슬러리 제조 업체로서, CMP 슬러리를 생산하고 설계하고 있습니다. 실리콘 카바이드· Entergris는 CMP 슬러리를 화학 포트폴리오에 추가하여 제품 포트폴리오를 증가시키는 것을 목표로합니다. 또한 2017 년 12 월, Cerion은 CMP 슬러리 및 기타 정밀 연마 응용 분야에 이상적입니다.
주요 선수:
글로벌 CMP 슬러리 시장에서 운영되는 주요 플레이어는 Versum Materials, Saint-Gobain, Eminess, Fujimi, Dow Chemicals, Cabot Microelectronic, FujiFilm, BASF, 3M, Evonik 및 Hitachi Chemical입니다.
시장 세금:
제품의 기초에, 세계적인 CMP 슬러리 시장은:
CMP 슬러리 시장은 다음과 같습니다.
글로벌 CMP 슬러리 시장은 다음과 같습니다.
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Vidyesh Swar
Vidyesh Swar is a seasoned Consultant with a diverse background in market research and business consulting. With over 6 years of experience, Vidyesh has established a strong reputation for his proficiency in market estimations, supplier landscape analysis, and market share assessments for tailored research solution. Using his deep industry knowledge and analytical skills, he provides valuable insights and strategic recommendations, enabling clients to make informed decisions and navigate complex business landscapes.
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