CMPスラリーマーケット ANALYSIS

ケミカルメカニカル平面化(CMP)は、半導体製造時に複数回使用される重要なステップの1つです。 このプロセスは、余分な材料を除去し、CMPスラリーとして知られている液体の助けを借りて滑らかな表面を作成するために、ウェーハのすべての層で使用されます。 CMPスラリーは、化学的機械的計画の過程で使用される微生物粒および活性化学物質を含む液体拡散です。 また、CMP研磨ナップとパッドを組み合わせてCMPの工程でウエハ表面に回転・保持するCMPスラリーが使用されています。

市場力学:

• 半導体業界における成長は、データ処理などのセグメントにおける半導体の応用を拡大し、 消費者の電子機器 3Dパッケージ、3D NANDなど新技術の需要が高まっています。 CMPのスラリー市場成長をCMPとして推進することが期待されています。 また、新規および改良されたコンシューマーエレクトロニクスの新技術および需要の上昇傾向は市場の全体的な成長を支持しています。
• また、CMPスラリー市場における主要プレイヤーによる合併・買収に伴い、市場の成長に貢献しています。 例えば、2018年8月には、シリカベースの化学機械式スラリーのプロデューサーであるCabot Microは、チップ製造工程で用いられる高純度洗浄薬品のリーディングサプライヤーであるKMGケミカルを買収することを発表しました。 買収により、Cabot Microは米国市場での販売を増加させることを目指しています。

市場の展望:

• 用途に応じて、シリコンウェーハのセグメントは、シリコンウェーハの消費量が増加する予測期間の間に市場を支配することが期待されます。 例えば、グローバルマイクロエレクトロニクス産業協会のSEMIが公表したレポートは、2017年、シリコンウェーハの約3億平方インチが開発、研磨、出荷、スライスされたことを示唆しています。 また、2017年、シリコンウェーハの約2,798万平方インチの電子製品のさまざまな供給に出荷されたと報告しています。 前述は、全体的なCMPスラリー市場の成長を駆動する重要な要因です。

CMPスラリーメーカーは、マージや買収、製品の発売、製品ポートフォリオや消費者ベースを拡大するためのパートナーシップなどの戦略に焦点を当てています。 たとえば、2020年1月には、特殊化学品および高度な材料ソリューションのリーダーであるエンターグリスがSinmatを取得しました。 Sinmatはガリウム窒化物のような超堅い表面材料を磨くために使用されるCMPのスラリーを作り出し、設計するフロリダに基づくCMPのスラリーの製造業者です 炭化ケイ素お問い合わせ 買収を通じて、エンターグリスは、その化学品ポートフォリオに特殊なCMPスラリーを追加することにより、製品ポートフォリオを高めることを目指しています。 また、2017年12月には、CMPスラリーなどの精密研磨用途に最適な新費用効果の高いフレキシブルナノ粒子分散剤を発売しました。

主プレーヤー:

世界的なCMPスラリー市場で動作する主要なプレーヤーは、バーム材料、サン・ゴバン、エミネス、富士見、ドー・ケミカル、キャボット・マイクロエレクトロニクス、富士フイルム、BASF、3M、エボニック、日立化成などです。

市場税法:

製品のベースでは、グローバルCMPスラリー市場は次のように区分されます。

• 酸化アルミニウム
• セレム酸化物
• シリカ

アプリケーションに基づいて、グローバルCMPスラリー市場は次のように区分されます。

• シリコンウェーハ
• 光学基板
• ディスクドライブ部品
• その他のマイクロエレクトロニクス表面

地域に基づいて、グローバルCMPスラリー市場は次のように区分されます。

• 北アメリカ
  • アメリカ
  • カナダ
  • メキシコ
• 南米
  • ブラジル
  • アルゼンチン
  • 南米の残り
• ヨーロッパ
  • アメリカ
  • ドイツ
  • イタリア
  • フランス
  • スペイン
  • ロシア
  • ヨーロッパの残り
• アジアパシフィック
  • 中国・中国
  • インド
  • ジャパンジャパン
  • 韓国
  • アセアン
  • オーストラリア
  • アジアパシフィック
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