エピタキシャルウェーハ市場 分析

エピタキシャルウェーハ市場規模は2022年に2,778百万米ドルで評価され、2022年から2030年までの12.9%の化合物年間成長率(CAGR)を目撃することを期待しています。 エピタキシャルウエファー(Epi-wafer)とも呼ばれるエピタキシャルウエファーは、エピタキシャルプロセスを介して他のシリコンウエハの上に置きます。 エピタキシーは、シリコンウェーハの磨かれた結晶面上の単結晶シリコン層を堆積させるプロセスです。 洗練されたウエファーの上には、単結晶炭化ケイ素結晶の層が重なり、エピタキシャルウエハを作るために添加されます。 その継ぎ目が無い生産は厚さ、キャリアの集中および欠陥密度上の精密な制御を必要とします。

化合物半導体エピタキシャルウエハは、世界中のさまざまな技術ガジェットで見つけることができるチップおよび集積回路(IC)を製造するために処理されます。 ウェーハのワイヤレス、フォトニック、電子性能は、エピタキシャル層によって決定されます。

図1:エピタキシャルウェーハ市場シェア(%)、地域別2022

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エピタキシャルウェーハ市場: 地域的洞察

2022年、アジア・パシフィックのエピタキシャルウェーハ市場が世界最大のシェアとなりました。 IoT、自動運転車、スマートフォンの普及など、さまざまな要因に市場を拡大することができます。 スマートフォンの需要増加とスマートフォン技術の進歩により、より厚く、より小さい集積回路(IC)が出現しました。 半導体のビルディングブロックは、これらのシリコンウェーハであり、半導体デバイスやチップはこれらの基質で作られています。 コンピュータ、家電製品、通信製品、その他の電子機器は、これらの半導体の使用をすべてのものにします。 その結果、メーカーは、このウェーハをエピタキシャルウエハでコーティングし、これらの電子機器の電力を増加する需要に応えます。 その結果、この要因は予測された時間枠上の領域におけるエピタキシャルウエファーの需要が増加すると予想されます。

また、この領域は、サムスン、ソニー、LG、東芝、パナソニック、トヨタ、ホンダなどの重要なメーカーの存在による半導体集積回路の最大の消費者です。 選手が現在いるとICの生産が加速されます。 その結果、この特定の領域におけるエピタキシャルウエファーの需要の増加が増加します。

エピタキシャル ウエファーの市場運転者:

LEDの照明の採用の増加

エピタキシャルウエファーの需要は、市場拡大の主要ドライバーであるLED照明の普及によって燃料を供給されています。 LED電球は、他のタイプの照明と比較して、より長持ち、耐久性、互換性があります。 すべての方向で熱およびライトを作り出す白熱および密集した蛍光灯(CFLs)とは対照的に、LEDsは「方向」光源です。 その結果、LEDは多くのアプリケーションで光とエネルギーをより効果的に活用することができます。 それらはより少ない熱を作り出し、白熱球根よりより少ないエネルギーを消費します。 いくつかのLEDは、標準ライトのために期待される電力の一般的に10%で動作し、かなり長いまで続くことができます。

初期資本投資

「初期資本投資」という用語は、電力または非電力施設の購入または構築のコストを指します。 これには、計画、設計、土地購入、建設中への投資、テストに関連する費用は限られません。 初期の高資本投資では、半導体製造分野に参入する小型のプレイヤーを制限します。 この要因は、将来のエピタキシャルウェーハ市場の成長をさらに制限します。

エピタキシャル ウエファーの市場は抑制します:

ウェーハ加工のコストを削減

半導体デバイス製造プロセスでは、ウェーハの加工は、多数の繰り返しで構成されるプロセスであり、半導体ウェーハに完全な電気回路または光回路を生成するためのシーケンシャルプロセスです。 エピタキシーのサービスは、ウエハ製造、余分なサイクルの複雑さ、およびエピレイヤーの降伏者に関連する問題のより大きな費用を組み込まれています。 ウェーハを集積回路に変換する半導体加工施設は、ウエハファブとして知られています。 半導体ウェーハの導体、トランジスタ、抵抗器、その他の電子部品は、一般的なウェーハファブの複雑な一連のステップで定義されます。

セグメントグラフ

図2:エピタキシャルウェーハ市場シェア(%)、適用により、2022

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エピタキシャル ウエファーの市場区分:

世界のエピタキシャル ウエファーの市場レポートは沈殿物のタイプによって、ウエファーのサイズおよび適用によって分けられます

蒸着タイプに基づいて、市場はヘテロエピタキシ、およびホメオエピタキシーをセグメント化し、ウェーハサイズに基づいて、市場は50mm〜100mm、100mm〜150mm、アプリケーションに基づいて、市場はLED半導体、パワー半導体、MEMSベースのデバイスにセグメント化されます。

エピタキシャルウェーハ市場:主要企業情報

ImecとQromisは、生成された改善モード、p-GaNディスクリート、200 mm QST基板上のIC電源ガジェット、AixtronのG5 + C 200 mm MOVCDステージで埋め込まれたエピタキシレイヤーを組んだ。 高度なCMOSシリコンパイロットラインでは、両方の企業は、デバイス製造、GaNパワーデバイスの開発、ディスクリートおよびモノリスティック集積ICフォーム、および200 mm QST基質に取り組んでいます。 ImecとQromisは、ドイツに拠点を置くGaN MOCVDギアメーカー、GaN-on-QSTのエピタキシーな進歩に関するAixtronと提携しています。 業界の専門家の数によると、300mmウェーハを処理する集積回路(IC)半導体製造プラントの数が2023年に15から138に増加します。

エピタキシャルウェーハ市場 主な開発:

2020年5月～ スウィガンABシリコンカーバイド(GaN-on-SiC)のエピタキシャルウエハをRFおよびパワーエレクトロニクスデバイス向けに製造するカスタムガリウム窒化物を製造する会社は、QuanFINE材料に基づいてGaN高周波デバイスの新しいベンチマークを発表しました。 同社は、デモンストレーションは、電気通信、スペース、および軍事市場を含むGaN RFバリューチェーン全体の商業的利益を約束することを信じています。

2022年6月のグローバルウエファー台湾CO テキサス工場では、300ミリのシリコンウェーハを半導体向けに生産・供給する5億ドルの投資を発表しました。

*定義: 光電子工学、マイクロエレクトロニクス、スピトロニクス、または光起電、エピタキシャルウエファーとしても知られるエピウェーハは、エピタキシャル成長(エピタキシー)を通した半伝導材料のウエハです。エピウエハは、例えば、バイポーラソートやMOSタイプなど、ダイオードや半導体、基板のコンポーネントに使用されます。 また、パワーデバイスは、複数のレイヤーエピウエハと厚膜エピウエハを頻繁に使用し、さまざまな電源製品のコンパクト性とエネルギー効率性に貢献します。