Die chemische mechanische Planarisierung (CMP) ist eine der entscheidenden Schritte, die bei der Herstellung von Halbleitern mehrfach verwendet werden. Dieses Verfahren wird bei jeder Waferschicht zur Entfernung von überschüssigem Material und zur Erzeugung einer glatten Oberfläche mit Hilfe einer Flüssigkeit, die als CMP-Slurry bekannt ist, verwendet. Die CMP-Slurry ist eine flüssige Diffusion, die mikroabrasive Körner und aktive Chemikalien enthält, die bei der chemischen mechanischen Planarisierung eingesetzt werden. Darüber hinaus werden CMP-Schlämme in Kombination mit CMP-Poliern und Pads verwendet, die im Prozess von CMP gegen die Waferoberfläche gedreht und gehalten werden.
Marktdynamik:
Marktausblick:
CMP-Slurry-Hersteller konzentrieren sich auf Strategien wie Fusionen und Akquisitionen, Produkteinführungen und Partnerschaften, um ihr Produktportfolio und ihre Verbraucherbasis zu erweitern. Im Januar 2020 erwarb Entergris, ein führender Anbieter von Spezialchemikalien und fortschrittlichen Materiallösungen, Sinmat. Sinmat ist ein CMP-Slurry-Hersteller mit Sitz in Florida, der CMP-Slurries produziert und entwickelt, die verwendet werden, um ultraharte Oberflächenmaterialien wie Galliumnitrid zu polieren und Siliciumcarbid. Durch die Akquisition will Entergris sein Produktportfolio durch die Hinzufügung spezieller CMP-Slurries in sein Chemikalienportfolio steigern. Darüber hinaus hat Cerion im Dezember 2017 eine neue kostengünstige und flexible Nanopartikel-Dispersionen ins Leben gerufen, die sich ideal für CMP-Slurries und andere Präzisionspolieranwendungen eignen.
Schlüsselakteure:
Hauptakteure im globalen CMP-Slurry-Markt sind Versum Materials, Saint-Gobain, Eminess, Fujimi, Dow Chemicals, Cabot Microelectronic, FujiFilm, BASF, 3M, Evonik und Hitachi Chemical unter anderem.
Marktsteuer:
Auf der Grundlage des Produkts wird der globale CMP-Slurry-Markt in:
Auf der Grundlage der Anwendung wird der globale CMP-Slurry-Markt in:
Auf Basis der Region wird der globale CMP-Slurry-Markt in:
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Vidyesh Swar
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